Relatório Carga Fapesp / 2005Emissão: 24/08/2009 21:02:16

CCS - CENTRO DE COMPONENTES SEMICONDUTORES

Projeto Alterado
Nome Projeto
TECNOLOGIA DE DEPOSICAO DE FILMES METALICOS POR PROCESSO A VACUO E QUIMICO PARA CONFECCAO DE CIRCUITOS INTEGRADOS DE MICROONDAS (MIC) EM MONO E MULTI CAMADAS.
Tipo Projeto: Pesquisa Aplicada
Situação Projeto: Em Andamento
Data Início Projeto: 10/2005
Ano Fim Projeto: 2009
Tipo Envolvimento Contrato: Individual
Descrição Projeto
TECNOLOGIA DE DEPOSICAO DE FILMES METALICOS POR PROCESSO A VACUO E QUIMICO PARA CONFECCAO DE CIRCUITOS INTEGRADOS DE MICROONDAS (MIC) EM MONO E MULTI CAMADAS.
Linha Pesquisa:
Novos Materiais
Instituições
Nome:
Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Fapesp
Tipo do Financiamento: Auxílio Pesquisa
Nº Processo na Financiadora: 2005/50025-3
Data Início Financiamento: 10/2005
Data Fim Financiamento: 12/2009
Valor do Financiamento: R$ 1.189.067,81
Complemento do Tipo Financiamento: INOVACAO TECNOLOGICA-2
Órgãos
(REIT) CCS - CENTRO DE COMPONENTES SEMICONDUTORES [01.21.00.00.00.00.00]
(FEEC) DSIF - DEPARTAMENTO DE SEMICONDUTORES INSTRUMENTOS E FOTONICA [29.09.00.00.00.00.00]
Equipes Projeto
JACOBUS WILLIBRORDUS SWART( Responsável )



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