| Nome Projeto: | DESENVOLVIMENTO DE UM SISTEMA DE PLASMA DE ALTA DENSIDADE DO TIPO ICP PARA MICRO E NANOFABRICACAO. |
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| Tipo Projeto: | Pesquisa Básica |
| | Situação Projeto: | Em Andamento |
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| Data Início Projeto: | 05/2005 |
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| Tipo Envolvimento Contrato: | Individual |
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| Descrição Projeto: | DESENVOLVIMENTO DE UM SISTEMA DE PLASMA DE ALTA DENSIDADE DO TIPO ICP PARA MICRO E NANOFABRICACAO. |
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| Instituições | | Nome: | | Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Fapesp |
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| Tipo do Financiamento: | Bolsa Pos doutorado no país PD |
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| Nº Processo na Financiadora: | 2004/08613-2 |
| | Data Início Financiamento: | 05/2005 |
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| Data Fim Financiamento: | 04/2006 |
| | Valor do Financiamento: | R$ 50.437,68 |
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| Complemento do Tipo Financiamento: | BOLSA NO PAIS-PD |
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| Órgãos | | 01.21.00.00.00.00.00 - CENTRO DE COMPONENTES SEMICONDUTORES |
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| Equipes Projeto | | Marcelo de Jesus Rangel Monteiro( Responsável ) |
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