Nome Projeto | FILMES FINOS E ULTRA-FINOS DE OXIDO, DE OXINITRETO DE SILICIO E DE NITRETO DE SILICIO OBTIDOS POR DEPOSICAO E OXIDACAO/NITRETACAO EM SISTEMA DE PLASMA REMOTO E SUAS APLICACOES COMO ISOLANTES E CAMADAS... !-- --> | |
Tipo Projeto: | Pesquisa Básica!-- --> |
| Situação Projeto: | Em Andamento!-- --> |
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Data Início Projeto: | 07/2000!-- --> |
| Tipo Envolvimento Contrato: | Individual!-- --> |
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Descrição Projeto | FILMES FINOS E ULTRA-FINOS DE OXIDO, DE OXINITRETO DE SILICIO E DE NITRETO DE SILICIO OBTIDOS POR DEPOSICAO E OXIDACAO/NITRETACAO EM SISTEMA DE PLASMA REMOTO E SUAS APLICACOES COMO ISOLANTES E CAMADAS... !-- --> | |
Instituições | Nome: | Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo - Fapesp!-- --> |
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Tipo do Financiamento: | Bolsa Pos doutorado no país PD!-- --> |
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Nº Processo na Financiadora: | 2000/00319-7!-- --> |
| Data Início Financiamento: | 07/2000!-- --> |
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Data Fim Financiamento: | 05/2001!-- --> |
| Valor do Financiamento: | R$ 31.170,00!-- --> |
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Órgãos | 01.21.00.00.00.00.00 - CENTRO DE COMPONENTES SEMICONDUTORES!-- --> |
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Equipes Projeto | Anna Paula da Silva Sotero( Responsável )!-- --> |
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