Engenharia de dispersão e geração de pentes de frequência em microdiscos de óxido de silício

"Engenharia de dispersão e geração de pentes de frequência em microdiscos de óxido de silício" (mestrado). Candidata: Laís Fujii dos Santos. Orientador: professor Gustavo Silva Wiederhecker. Dia 27 de abril de 2018, às 9 horas, no auditório Méson-Pi do DRCC do IFGW.

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